掩模板

A. 集成电路掩模板设计的工作前景怎么样

嗯 挺好的 现在国家大力发展集成电路事业 就是IC行业门槛都比较高 需要努力学到东西才可以

B. 相位掩模板有哪些特性

这种相位掩模板哪里能买到？ 是国产的吗？还是从哪进口的？

C. 谁知道哪里有做菲林片掩模板的啊急！！！

深圳市路维光电股份有限公司

D. 哪里有做塑料掩模板的急！！！

北京胶带，胶粘材料，德莎胶带

E. 设计掩模板一般用什么软件啊可以用Auto CAD 吗

CAD适合二维图纸
UG和PRO E等适合三维图纸，自己把握用那个适合自己。

F. 什么是光刻掩模板

在薄膜、塑料抄或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构，称为光刻掩模版。

半导体集成电路制作过程通常需要经过多次光刻工艺，在半导体晶体表面的介质层上开凿各种掺杂窗口、电极接触孔或在导电层上刻蚀金属互连图形。光刻工艺需要一整套（几块多至十几块）相互间能精确套准的、具有特定几何图形的光复印掩蔽模版。

G. 光刻掩模板的正负面怎么判断

正反面？ 负面就不是太清楚了。 一般地 如果有pellicle的话，pellicle朝下就对了; 如果没有pellicle, 有图线的在下面，光的一面在上面：）

H. 用于光纤光栅的相位掩模版有哪些分类上海光学精密机械研究所

一种采样光纤光栅的刻写方法，该方法采用的装置由紫外光源、全反射镜、可控电回动平移平台、答准直聚焦柱透镜、光栅相位掩膜板和光纤夹持拉伸系统组成，该刻写方法的具体过程为:紫外光源产生的紫外光，经全反射镜反射后照射到准直聚焦柱透镜，经透镜聚焦到光栅相位掩膜板上。透射光通过相位掩模板后能够产生±1级衍射，衍射光形成的干涉光对被刻写光纤进行曝光。刻写过程中可控电动平移平台带动全反射镜匀速平移引起曝光位置在被刻写光纤上的匀速平移，光纤夹持拉伸系统可以保持被刻写光纤伸直同时等时间间隔逐步手动拉伸被刻写光纤，逐步改变光纤光栅周期达到对光纤光栅的反射波长进行采样的目的。

I. 光刻掩模板有什么功能

光刻掩膜板是一个在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形（电路）并精确定位，以便用于光（紫外，X-ray）致其抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构，也称为光刻印刷版