掩模板

A. 集成電路掩模板設計的工作前景怎麼樣

嗯 挺好的 現在國家大力發展集成電路事業 就是IC行業門檻都比較高 需要努力學到東西才可以

B. 相位掩模板有哪些特性

這種相位掩模板哪裡能買到？ 是國產的嗎？還是從哪進口的？

C. 誰知道哪裡有做菲林片掩模板的啊急！！！

深圳市路維光電股份有限公司

D. 哪裡有做塑料掩模板的急！！！

北京膠帶，膠粘材料，德莎膠帶

E. 設計掩模板一般用什麼軟體啊可以用Auto CAD 嗎

CAD適合二維圖紙
UG和PRO E等適合三維圖紙，自己把握用那個適合自己。

F. 什麼是光刻掩模板

在薄膜、塑料抄或玻璃基體材料上製作各種功能圖形並精確定位，以便用於光致抗蝕劑塗層選擇性曝光的一種結構，稱為光刻掩模版。

半導體集成電路製作過程通常需要經過多次光刻工藝，在半導體晶體表面的介質層上開鑿各種摻雜窗口、電極接觸孔或在導電層上刻蝕金屬互連圖形。光刻工藝需要一整套（幾塊多至十幾塊）相互間能精確套準的、具有特定幾何圖形的光復印掩蔽模版。

G. 光刻掩模板的正負面怎麼判斷

正反面？ 負面就不是太清楚了。 一般地 如果有pellicle的話，pellicle朝下就對了; 如果沒有pellicle, 有圖線的在下面，光的一面在上面：）

H. 用於光纖光柵的相位掩模版有哪些分類上海光學精密機械研究所

一種采樣光纖光柵的刻寫方法，該方法採用的裝置由紫外光源、全反射鏡、可控電回動平移平台、答準直聚焦柱透鏡、光柵相位掩膜板和光纖夾持拉伸系統組成，該刻寫方法的具體過程為:紫外光源產生的紫外光，經全反射鏡反射後照射到準直聚焦柱透鏡，經透鏡聚焦到光柵相位掩膜板上。透射光通過相位掩模板後能夠產生±1級衍射，衍射光形成的干涉光對被刻寫光纖進行曝光。刻寫過程中可控電動平移平台帶動全反射鏡勻速平移引起曝光位置在被刻寫光纖上的勻速平移，光纖夾持拉伸系統可以保持被刻寫光纖伸直同時等時間間隔逐步手動拉伸被刻寫光纖，逐步改變光纖光柵周期達到對光纖光柵的反射波長進行采樣的目的。

I. 光刻掩模板有什麼功能

光刻掩膜板是一個在薄膜、塑料或玻璃基體材料上製作各種功能圖形（電路）並精確定位，以便用於光（紫外，X-ray）致其抗蝕劑塗層選擇性曝光的一種結構，也稱為光刻印刷版